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自旋电子激发业界关注,有望打破半导体垄断局面   [2005-01-09]
自旋电子学(Spintronics)是一门使电子充电和旋转均能用于携带信息的新技术,由于其广泛的应用潜力引发业界的强烈关注。 Frost & Sullivan分析师Sivakumar Muthuramalingam在报告中指出:“自旋电子的首批应用领域已得到论证,业界对开发下一个自旋电子器件的兴趣极大,并期...    [阅读全文]
 
 
中芯国际发布0.18微米EEPROM工艺技术及智能模块设计平台   [2005-01-08]
中芯国际集成电路制造有限公司(SMIC)日前宣布,其研发出的0.18微米电可擦除只读存储器(EEPROM)工艺技术已经可以提供给客户使用。为了更好地服务于全球客户,中芯国际设计服务处同时宣布他们采用此项工艺技术成功研发出嵌入式电可擦除只读存储器智能模块设计平台。 “众所...    [阅读全文]
 
 
高增长后遇新挑战,珠海炬力被SigmaTel在美起诉侵权   [2005-01-07]
SigmaTel公司日前宣布,已在德州Austin的美国联邦法院向珠海炬力集成电路设计有限公司提起诉讼,指控后者侵犯了有关便携式MP3播放器用系统级芯片(SoC)控制器的数项专利。 据悉珠海炬力公司近期向美国零售市场付运了MP3播放器用IC。而SigmaTel利用此次诉讼,寻求美国禁止进...    [阅读全文]
 
 
风河系统的IPsec网络栈产品获VPNC认证   [2005-01-07]
风河系统公司(Wind River Systems)日前宣布其IPsec网络栈已经获得了VPNC认证。风河的IPsec支持所有风河平台,使得风河公司可以向高安全性IP网络互连环境提供充分支持。利用风河包含IPsec网络栈并经过验证的风河平台,嵌入式系统开发商可以推出更加安全、可靠的新一代电子...    [阅读全文]
 
 
华润上华签约西安IC基地,提供0.5/0.6微米MPW服务   [2005-01-07]
国家集成电路设计西安产业化基地日前宣布与华润上华科技有限公司(CSMC)签署合作协议。西安IC基地将作为华润上华在西北地区的MPW合作伙伴,开展和推进华润上华的多项目晶圆(MPW)业务。 华润上华表示,该公司推出的多项目晶圆服务,旨在帮助客户以低廉的成本、快捷的方式在硅...    [阅读全文]
 
 
Data I/O编程设备支持瑞萨科技SuperAND技术   [2005-01-07]
人工和自动化编程系统供应商Data I/O公司日前宣布首次对瑞萨(Renesas)SuperAND技术的编程支持。首批推出的设备涉及RTC M6MLD937J2LBWG SCSP-88(SuperAND与NOR多芯片封装)及RTC M6MLD277J3ZDWG SCSP-88(SuperAND与NOR多芯片封装),这种新技术现可在Data I/O的FlashCORE人...    [阅读全文]
 
 
飞利浦在IMEC上发布最新90纳米工艺RF CMOS技术   [2005-01-07]
飞利浦半导体日前在IEEE举办的国际电子器件会议(IEDM)上,发布了超过17篇的半导体研究论文。这些论文介绍了飞利浦与比利时微电子研究中心(IMEC)以及Crolles2 Alliance的研发成果,内容涵盖65及45纳米节点CMOS工艺、90纳米节点RF CMOS性能等。 飞利浦的主要研究焦点在于开...    [阅读全文]
 
 
国际电联新批三项规范,方便运营商提供视频服务   [2005-01-07]
国际电信联盟(ITU)日前宣布,已经批准了三项旨在定义DSL网络中铜线对(copper pairs)邦定的规范。这一举措使运营商能够建立更高带宽的信道,以便为客户提供视频服务。 三项新的规范分别是G.998.1、G.998.2和G.998.3。G.998.1建议定义了一种邦定多条DSL线路的方法,能以超过...    [阅读全文]
 
 
全美达可能放弃处理器业务,更专注提供IP授权   [2005-01-07]
全美达(Transmeta)公司最近宣布,在2005年将更加专注于IP授权业务和先进技术。这预示Transmeta可能退出x86微处理器产品业务。 Transmeta没有明确表示将放弃微处理器产品业务。但该公司表示“将在2005年1月完成对于目前设计、开发和销售x86兼容微处理器产品的业务模式的评...    [阅读全文]
 
 
FSI International的ZETA清洗设备获多家12英寸厂订单   [2005-01-07]
FSI International最近获得了多家12英寸晶圆ZETA喷雾式清洗设备订单,其中包括台湾地区一家半导体制造商,他们会将这套清洗设备用于90纳米前端工艺的表面处理,另一家微处理器制造厂商则会将ZETA用于后端工艺。 FSI表示,ZETA清洗设备已经成功应用在一项65纳米合作发展计划...    [阅读全文]
 
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